簡介：
單晶硅生長爐是采用直拉法生產(chǎn)太陽能級單晶的設(shè)備，在單晶硅的生產(chǎn)中，能否拉出符合質(zhì)量要求的單晶，整個工藝衛(wèi)生所起的作用是至關(guān)重要的，清爐這一環(huán)節(jié)是十分重要。單晶硅生長爐所需清爐的部位有：所有石墨器件上的浮塵和氧化硅一定要吸除干凈;真空排氣口和管道的氧化物每次清爐時都應(yīng)清除干凈，以保證排氣暢通。氧化物的沉積目前需要人工細致的清理，不僅費時費力，也會因局部清理不到位而給生產(chǎn)帶來隱患，采用非接觸全方位的專用清爐設(shè)備是改進這一工藝的有效途徑。可以增強爐體的清潔能力，提高單晶爐的工作效率，使其更安全，更經(jīng)濟的可靠運行。
工作原理：
單晶硅生長爐專用清爐設(shè)備以壓縮空氣作為動力源，產(chǎn)生一定脈沖能量的沖擊波，使積灰、結(jié)垢在爐體內(nèi)或管道內(nèi)的附著狀態(tài)產(chǎn)生分離，并使原有的積灰、結(jié)垢發(fā)生疲勞斷裂和破碎。積灰和結(jié)垢在沖擊波的作用下，從附著面剝離而被一定流速流動的氣體帶出，根據(jù)積灰的物理性質(zhì)優(yōu)化控制使積灰得以及時有效地清除，保持爐體清潔。
