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高性能光學(xué)系統(tǒng)
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光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室，實(shí)現(xiàn)光路直通，有效的降低光路損耗；
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采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素如C、P、S、B、As、N以及各種金屬元素含量；
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測定結(jié)果精準(zhǔn)，重復(fù)性及長期穩(wěn)定性極佳。
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自動(dòng)光路校準(zhǔn)
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自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；
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儀器自動(dòng)識別特定譜線與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定。
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插拔式透鏡設(shè)計(jì)
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真空光學(xué)系統(tǒng)采用獨(dú)特的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護(hù)方便快捷。
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真空室一體化
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獨(dú)特的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空時(shí)間僅普通光譜儀的1/2；
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真空室一體化設(shè)計(jì)及高精密的加工，使真空保持的更加持久。
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真空防返油技術(shù)
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多級隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空完全隔離
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中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。
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開放式激發(fā)臺
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開放式激發(fā)臺機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析；
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配合使用小樣品夾具，線材最低分析可達(dá)到1.5mm。
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噴射電極技術(shù)
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采用國際最先進(jìn)的噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度
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集成氣路模塊
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氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì)，替代電磁閥和流量計(jì)，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
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數(shù)字化激發(fā)光源
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數(shù)字激發(fā)光源，采用國際最為先進(jìn)的等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品；
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全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出；
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可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù)，滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
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高速數(shù)據(jù)采集
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儀器采用高性能CMOS檢測元件，具有每塊CMOS單獨(dú)超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。
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以太數(shù)據(jù)傳輸
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計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)完全外置，方便升級和更換；
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可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。
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預(yù)制工作曲線
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備有不同材質(zhì)和牌號的標(biāo)樣庫，儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線，方便安裝調(diào)試和及時(shí)投入生產(chǎn)；
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根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇最優(yōu)測試條件；
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技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標(biāo)樣免費(fèi)繪制或延長工作曲線）。
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分析速度快
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分析速度快，僅需20秒即可完成一次分析；
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針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測量時(shí)間，使儀器用最短時(shí)間達(dá)到最優(yōu)的分析效果。
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多基體分析
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光路設(shè)計(jì)采用羅蘭圓結(jié)構(gòu)，檢測器上下交替排列，保證接收全部的譜線，不增加硬件設(shè)施，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析；
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