產品描述

日立高新磁控濺射器(MC1000)采用電磁管電極，能有效減輕對樣品的損傷并實現均勻涂覆，適用于高分辨率掃描式電子顯微鏡。設備支持最大樣品直徑60mm，高度20mm，配備LCD觸摸屏便于操作，具備記憶功能存儲常用條件，并可選配處理較大樣品的配件。

應用領域

一、數據存儲領域

1. 磁性薄膜制備：用于制備硬盤驅動器中的磁性存儲薄膜。通過磁控濺射技術，可以精確控制磁性薄膜的厚度、成分和晶體結構，從而實現高存儲密度和快速的數據讀寫性能。例如，濺射鈷基合金薄膜作為磁記錄介質，能夠提高硬盤的存儲容量和數據傳輸速率。

2. 磁頭材料鍍膜：對磁頭的表面進行濺射鍍膜，可改善磁頭的性能和耐磨性。例如，在磁頭表面濺射一層氮化碳薄膜，能夠提高磁頭的硬度和抗腐蝕性能，同時減少磁頭與磁盤之間的摩擦，提高磁頭的使用壽命和讀寫精度。

二、能源領域

1. 太陽能電池：在太陽能電池的制備中，MC1000可用于濺射透明導電氧化物薄膜，如氧化銦錫（ITO）薄膜，作為太陽能電池的電極，具有高透明度和良好的導電性，能夠提高電池的光電轉換效率。此外，還可濺射減反射薄膜，增加太陽能電池對太陽光的吸收。

2. 燃料電池：用于制備燃料電池中的催化劑薄膜和電解質薄膜。例如，濺射鉑基催化劑薄膜在質子交換膜燃料電池的電極上，能夠提高催化劑的活性和穩定性，促進電化學反應的進行。同時，濺射電解質薄膜可以提高燃料電池的性能和效率。

三、珠寶裝飾領域

1. 金屬薄膜鍍膜：在珠寶飾品表面濺射各種金屬薄膜，如金、銀、鉑等，可實現仿金、仿銀等效果，提高飾品的外觀質量和裝飾性。同時，濺射的薄膜具有良好的耐磨性和耐腐蝕性，能夠保護飾品表面，延長其使用壽命。

2. 彩色薄膜制備：通過磁控濺射技術制備各種彩色薄膜，如氮化鈦（TiN）薄膜具有金黃色的外觀，氮化鋯（ZrN）薄膜具有銀白色的外觀，碳化鈦（TiC）薄膜具有黑色的外觀等。這些彩色薄膜可用于珠寶飾品的表面裝飾，增加飾品的色彩多樣性和獨特性。

儀器功能

一、導電膜制備：主要用于為掃描電鏡樣品鍍制導電膜，通過向不導電或導電性差的樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬，消除樣品的荷電現象，提高觀測效率，以便于在掃描電鏡下進行高倍率觀測。

二、鍍膜均勻：利用磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，使鍍層更均勻，能在樣品表面形成均勻的粒子涂層，適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡，可滿足對微觀結構較復雜樣品的觀測需求。

三、條件控制與調節：在電鍍過程中可調節真空強度，并可按照電流強度或者時間對電鍍效果進行調節，樣品噴鍍高度距離可調。還可通過選配測量單元實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。

儀器特點

一、操作便捷：采用LCD觸摸屏控制技術，操作方便，界面友好，可直觀地進行各種參數設置。同時具有記憶功能，可存儲五種常用的加工條件，方便用戶快速調用，提高工作效率。

二、樣品適應性強：標準配置下最大樣品直徑可達60mm，高度為20mm，并且可通過選配件處理較厚或較大的樣品，能滿足不同尺寸和形狀樣品的濺射鍍膜需求。

三、損傷小：采用電磁管電極，最大限度減少對樣品的損傷，特別適合對精細樣品進行處理。

四、放電穩定：屬于磁控二極管放電型（電場垂直于磁場），電極組成為反向平行盤（嵌入磁鐵），這種結構使得放電穩定，能夠提供穩定的濺射條件，保證鍍膜質量。

技術指標和基本參數